公司成立于2018年，总部位于中国青岛，并在北京、上海设有研发中心。思锐智能主要聚焦关键半导体前道工艺设备的研发、生产和销售，提供具有自主可控的核心关键技术的系统装备产品和技术服务方案。公司产品包括原子层沉积(ALD)设备及离子注入(IMP)设备，广泛应用于集成电路、第三代半导体、新能源、光学、零部件镀膜等诸多高精尖领域。

2018年，公司完成对ALD技术发源地--芬兰倍耐克公司100%股权的收购工作。整合倍耐克海外前沿技术研发资源，开展ALD技术国内外联合研发与国内产业化落地工作，建立了完善的ALD产品体系，覆盖全球众多头部客户并在众多细分领域取得领先的市场竞争地位。目前思锐智能及其子公司拥有300余项相关专利，在ALD技术及应用方面具备雄厚的技术积累。

公司在推进ALD业务转型升级后，布局离子注入设备业务并取得突破。思锐智能以高能离子注入机为切入点开展研发，解决国内高端离子注入机”卡脖子“问题，逐步完成硅基及化合物半导体领域全系列机型的布局。

公司已成为拥有全球客户拓展能力的中高端半导体装备生产制造商业务范围覆盖全球40个国家及地区，累计超过500个全球客户。